設(shè)備介紹
ZY-1185 多弧離子真空鍍膜機是用于在各種工具、刀具、抗磨零件等表面涂裝硬質(zhì)或超硬質(zhì)耐磨涂層的專用設(shè)備。設(shè)備合理配備多套最新研制的陰極電弧，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性，同時采用先進的多路進氣系統(tǒng)，精準(zhǔn)控制氣體流量，滿足客戶多種化合物膜層需求。另外，本品還裝載大功率脈沖偏壓電源，能極大提高電離子能量，保證離化率高、離子能量大、沉積速度快，從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。
設(shè)備特點
電弧在靶材整個表面做快速移動，靶材表面被均勻刻蝕，優(yōu)化了涂層結(jié)合力，涂層表面光滑致密，且具有優(yōu)異的涂層附著力。
擁有更快的批次周轉(zhuǎn)效率和涂層生產(chǎn)效率。
在有效鍍層范圍內(nèi)涂層厚度均勻。
高質(zhì)量的硬質(zhì)涂層允許工具具有更高的切削和進料速度，并由于延長使用壽命而減少了更換工具的時間，從而降低了總加工成本。
涂層的摩擦性和硬度允許減少潤滑和冷卻，保證加工零件的表面質(zhì)量更好。
設(shè)備參數(shù)
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爐體尺寸 |
φ1100×H850 |
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有效空間 |
φ550×H500 |
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極限壓力 |
5.0×10-4Pa |
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抽氣時間 |
大氣到4X10-3 <20分鐘 |
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真空系統(tǒng) |
分子泵、羅茨泵、旋片泵 |
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電源類型 |
弧電源、脈沖偏壓電源、槍電源 |
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工件轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu) |
下轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu) |
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應(yīng)用技術(shù) |
HCD+ARC |
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標(biāo)準(zhǔn)涂層 |
TiN、CrN、AlTiN等 |
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可選涂層 |
TiAlCrN等 |
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生產(chǎn)周期 |
3-5小時/爐 |
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外圍尺寸 |
L4000×W3200×H2200 MM |
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實際功率 |
50KW |
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產(chǎn)量/爐 |
銑刀φ10×70 680 刀粒φ18×6 5000 滾刀φ80×80 48
模具 500KG
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配套條件 |
循環(huán)水壓力：2-3KG/CM3 水量：10T/H 壓縮空氣：4-6 KG/CM3 |
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工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
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控制方式 |
手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC（自己開發(fā)的鍍膜專用軟件） |
中文 
